Vistec Electron Beam GmbH
当社について
ドイツ・イエナに拠点を置くVistec Electron Beamは、長年にわたり電子ビーム描画装置を供給してきた実績を持ち、業界をリードする技術ソリューションを提供している企業です。
可変形状ビーム（VSB）方式に基づく当社の電子ビーム描画装置は、化合物半導体を含む半導体製造における電子ビーム直接描画、ダイレクトマスク作製、フォトニクス、新興市場など、産業用途および先端研究分野で広く活用されています。
効率的なデータ処理と露光手法の拡張により、特にAR/VR分野において新たな応用が可能です。
Vistec Electron Beamの起源は1950年代にまで遡り、当時はCarl Zeiss Jenaの一部として世界初の電子顕微鏡の開発に携わっていました。1974年には初の商用可変成形ビーム（VSB）システムを発表し、1996年より現体制で事業を展開しています。
また、2012年からはHEIDENHAIN CORPORATE GROUPの一員となりました。
住所
Ilmstr. 4
07743 Jena
Germany
メール: ines.stolberg@vistec-semi.com
電話: +49 3641 77980
WEBサイト: www.vistec-semi.com
Hulic Kojimachi Bldg.,9F 3-2 Kojimachi,Chiyoda-ku
102-0083 Tokyo
Japan
メール: sales@heidenhain.co.jp
電話: +81 42 798 6091
WEBサイト: www.heidenhain.co.jp/
連絡担当者:
Ines Stolberg
メール: electron-beam@vistec-semi.com
製品
多様な用途に対応する電子ビーム描画装置
SB3050-2 光リソグラフィシステム
The Vistec SB3050-2 is today’s most advanced Electron Beam Lithography system with Variable Shaped Beam technology and full writing capability on mask or wafer substrates of up to 300 mm dimension.
Effective writing techniques and Variable Shaped Beam electron optics make the simultaneous use of fast exposure and high resolution possible. The Cell Projection function improves throughput and pattern fidelity of repetitive or curvilinear structures.
Thanks to the production-compatible Graphical User Interface (GUI), the Vistec SB3050-2 can be easily integrated into automated production environments (CIM). Capable of exposing both masks (including templates) and wafers, the SB3050-2 exposure tools are ideal for bridging the gap between next-generation technology nodes.
