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出展社 Vistec Electron Beam GmbH

Vistec Electron Beam GmbH

www.vistec-semi.com

当社について

ドイツ・イエナに拠点を置くVistec Electron Beamは、長年にわたり電子ビーム描画装置を供給してきた実績を持ち、業界をリードする技術ソリューションを提供している企業です。

可変成形ビーム(VSB)方式に基づく当社の電子ビーム描画装置は、化合物半導体を含む半導体製造における電子ビーム直接描画、ダイレクトマスク作製、フォトニクス、新興市場など、産業用途および先端研究分野で広く活用されています。

効率的なデータ処理と露光手法の拡張により、特にAR/VR分野において新たな応用が可能です。

Vistec Electron Beamの起源は1950年代にまで遡り、当時はCarl Zeiss Jenaの一部として世界初の電子顕微鏡の開発に携わっていました。1974年には初の商用可変成形ビーム(VSB)システムを発表し、1996年より現体制で事業を展開しています。

また、2012年からはHEIDENHAIN CORPORATE GROUPの一員となりました。

住所

Vistec Electron Beam GmbH
Ilmstr. 4
07743 Jena
Germany

メール: electron-beam@vistec-semi.com
電話:  +49 3641 77980
WEBサイト: www.vistec-semi.com
HEIDENHAIN K.K.
Hulic Kojimachi Bldg.,9F 3-2 Kojimachi,Chiyoda-ku
102-0083 Tokyo
Japan

メール: sales@heidenhain.co.jp
電話:  +81 42 798 6091
WEBサイト: www.heidenhain.co.jp/

連絡担当者:

Ines Stolberg
メール: electron-beam@vistec-semi.com

製品

マイクロ・ナノテクノロジー

多様な用途に対応する電子ビーム描画装置

SB254 光リソグラフィシステム

Vistec SB254電子ビーム描画装置は、市場の要求に迅速に対応できるよう、直接描画およびマスク製造の両用途に対応した、高い汎用性とコスト効率を備えた装置として開発されました。ステージの移動範囲が210 mm x 210 mmであるため、最大7インチのマスクおよび直径200 mmまでのウエハの露光に最適な装置です。

SB3050-2 光リソグラフィシステム

Vistec SB3050-2は、可変成形ビーム(VSB)技術を搭載した当社最先端の電子ビーム描画装置で、最大300 mmのマスクまたはウエハ基板全面への描画が可能です。
ウェブサイトを見る

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