DaVinci計測システムの第5世代ツールは、28nmノード技術領域まで対応した高速処理のオーバーレイ計測専用機として開発されました。新しいステージハードウェアと最適化されたアルゴリズムにより、G5システムは高精度位置決めと高スループットを実現し、新しいナノメートル構造ウェハ計測における最先端技術となっています。

MT3000+はMueTecが開発した、既存市場に多く実績のあるMT3000計測システムの次世代モデルです。MT3000は、オーバーレイとCDにおける測定精度の向上と高スループットを実現する用途向けのシステムです。新しい高速ステージと高精度ピエゾZ軸駆動により、既存の計測システムよりも高い性能とスループットを実現しています。MT3000は、高い柔軟性と完全自動化された操作が求められる生産環境向けに設計されています。

最大300㎜ウェハまで対応の高スループットウェハ欠陥検査システム。自動かつ完全密閉型。表面と裏面を同時に検査できるため、大量生産環境に最適です。高スループット、完全自動基板ローディング、シンプルな操作性を実現するよう最適化されています。レシピ不要の操作により、層ごとのレシピを作成することなく、さまざまなプロセス層の欠陥を自動的にスキャンし検出できます。

MueTecの赤外線ソリューションシステムは、MEMS製造における歩留まり向上を目的として設計されています。当社は、100mm、150mm、200mmのMEMSウェハに対応した完全自動化ソリューションを提供しています。

自動式で完全密閉型の150㎜および200㎜高スループットウェハ欠陥検査システム。表面と裏面を同時に検査できるため、大量生産環境に最適です。高スループット、省スペース、シンプルな操作性を実現するよう最適化されています。レシピ不要の操作により、レイヤーごとのレシピを作成することなく、さまざまなプロセスレイヤー上の欠陥を自動的にスキャンして検出できます。

ロボットによるフォトマスク搬送機能を備えた、自動かつ完全密閉型のマスク欠陥検査システム。最大2つのポッドまたはカセットステーションに対応。Die to Die方式による自動検査で統計的な不良を検出し、フォトマスクが良品か、洗浄が必要か、交換が必要かを自動的に判定します。最大21インチのフォトマスクサイズまで対応可能です。

DaVinci 300IRは、MEMS技術に特化した赤外線計測・検査分野におけるMueTec社の最先端製品です。可視光オプションと組み合わせることで、オールインワンシステムとしてインラインプロセス制御にメリットをもたらします。DaVinci 3001Rは、20年にわたる赤外線システム開発の経験に基づき、お客様が様々な用途にご利用いただけるよう設計されています。