Vistec SB254電子ビーム描画装置は、市場の要求に迅速に対応できるよう、直接描画およびマスク製造の両用途に対応した、高い汎用性とコスト効率を備えた装置として開発されました。ステージの移動範囲が210 mm x 210 mmであるため、最大7インチのマスクおよび直径200 mmまでのウエハの露光に最適な装置です。