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出展社 DAS Environmental Expert GmbH

DAS Environmental Expert GmbH

www.das-ee.com/

当社について

世界の産業にきれいな空気と水を

DAS Environmental Expertsは1991年創業以来、空気浄化・水処理のためのカスタマイズ可能な環境技術ソリューションを提供しています。排ガス浄化や排水処理における持続可能な技術開発に注力し、世界の産業に貢献。高い品質基準を維持し、社員と社会とともに成長を続けています。

住所

DAS Environmental Expert GmbH
Goppelner Straße 44
01219 Dresden
Germany

メール: contact@das-ee.com
電話:  +49 351 40494-000
WEBサイト: www.das-ee.com/
DAS Environmental Equipment Japan Company Ltd.
164–2, Tsukure Kikuyo-machi, Kikuchi-gun
869‑1101 Kumamoto
Japan

メール: office-japan@das-ee.com
電話:  +81 96 285 7738
WEBサイト: www.das-ee.com/ja/

連絡担当者:

Teddy Wang
メール: office-japan@das-ee.com
電話: +81 96 285 7738

製品

産業向け排ガス処理の製品ラインアップ

最先端のソリューションを網羅した、当社の排ガス処理製品をご紹介します。カスタマイズ可能な局所排気型システムから、統合的な処理コンセプトまで、あらゆる産業ニーズに対応します。

標準化とカスタマイズを両立する

排水処理ソリューション

工業分野の排水処理ニーズは、プロジェクトごとに異なります。
DASは、標準化の利点を活かしながら、お客様の要件に合わせた最適なソリューションを提供します。単一の生物処理工程からプラント全体、工場規模での排水処理導入まで、幅広く対応可能です。

SALIX

SALIX は、スイッチングボックスに代わるソリューションとして開発されました。スイッチングボックス方式と比較した利点として、排気配管の小型化と簡素化、装置の設置面積の縮小、そしてプロセス変更に対する高い柔軟性が挙げられます。詳細については、 半導体業界のウェットベンチプロセスに関するケーススタディ をご参照ください。

STYRAX DUO STYRAX - 高負荷・大量プロセス対応の排ガス処理システム

STYRAXは、DASが提供する高性能製品シリーズで、大量生産が求められる製造環境に最適です。この製品群には、特にコンパクトな設置面積を実現したポイントオブユース型バーンウェット方式およびプラズマウェット方式のシステムが含まれています。

STYRAXは、CVD、酸化膜/ポリ/金属エッチング、エピタキシー、GaN、MOCVD、LED製造などのプロセスガスに対応するために開発されました。高効率かつ低環境負荷を特徴とし、CF₄に対して95%以上の破壊・除去効率(DRE)を達成します。さらに、H₂、SiH₄、TEOSなどのCVDガスに対する高い処理能力と包括的な安全対策により、STYRAXソリューションは環境・健康・設備を同時に保護します。STYRAX DUOは当社の標準モデルです。2つのスクラビングシステムが同時に稼働します。さらに、クローズドループ設計により、低水消費を実現しているのが特徴です。

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ESCAPE DUO – 安全かつ効率的なプロセスガス洗浄を実現するモジュール式燃焼・湿式システム

ESCAPE DUO is our well-established standard version designed with a double-reactor-scrubber combination offering two burn-wet systems that can operate simultaneously. It is optimised for up to four independent inlets. In case of malfunction or maintenance on one reactor, the other backs up the treatment of all waste gases (internal back-up), which ensures the equipment’s near 100 % uptime.

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OTTELIA – Efficient Particle Removal from Semiconductor Process Wastewater

OTTELIA is an innovative solution for removing silicon dioxide (SiO2) particles from process wastewater - especially from wet-chemical cleaning and etching processes in semiconductor manufacturing.

The system reliably removes even the finest particles from the wastewater and thus creates the conditions for safe recycling of the treated water for reuse in waste gas purification.

Maximum Efficiency for Your Wastewater Treatment

Benefit from:

  • Adaptable to different volume flows and particle sizes

  • Compact plug-and-play unit

  • High system efficiency enables direct water reuse

  • Guaranteed process reliability

  • Integrated control and measurement technology

  • Reduced fresh water consumption and waste water volume

  • Contribution to sustainable water management in semiconductor production

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ALCEA

ALCEAは、実績あるDASのプラズマ支援触媒技術を基盤とした、高度に統合された高効率な二次排ガス処理システムです。NOxを発生する各種排ガス処理装置の後段に設置し、さらなるNOx削減を実現します。

本プロセスでは、プラズマ技術により活性酸素種(Reactive Oxygen Species: ROS)を生成し、これを触媒反応の基盤として利用します。

前段の処理条件に応じて、ALCEAは最大95%の優れたNOx除去効率を達成しながら、エネルギー消費を最小限に抑えます。また、触媒ユニットを排気ダクト内に組み込むことで、追加の設置スペースをほとんど必要としません。サブファブ(Subfab)の排気ダクトシステムへ容易に組み込むことができ、既存設備への導入にも柔軟に対応します。

ALCEA

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