RTPシリーズでは、さまざまなサイズのシリコンウェーハを処理できるほか、グラファイト製サセプターを装着することで、幅広い種類の部品・材料の処理にも対応できます。

代表的な用途は以下のとおりです。

太陽電池／太陽光発電（Photovoltaic）用途

薄膜の結晶化・緻密化

高純度環境下での酸化・還元プロセス

活性化および欠陥アニール

急速熱酸化／窒化

金属・コンタクトの合金化／メタライゼーション

高精度かつ高速な昇温・降温制御と優れた温度均一性により、当社の装置は高品質な卓上型炉スとして、　あらゆる研究室でご活用いただけます。

さらに、マスフローコントローラー（MFC）によって制御される最大4系統のガスラインと、内蔵データロギング機能を備えており、お客様の用途に最適なプロセス条件の検討・確立をサポートします。